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Simulation of Proximity Printing

Péter Bálint Meliorisz

Published by Shaker Verlag Jan 2011, 2011
ISBN 10: 3832297421 / ISBN 13: 9783832297428
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Title: Simulation of Proximity Printing

Publisher: Shaker Verlag Jan 2011

Publication Date: 2011

Binding: Buch

Book Condition: Neu

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Neuware - Herkömmliche Maskenjustierer bieten eine kostengünstige Alternative zu den teuren Projektionsoptiken in der (Sub-)Mikrometer-Lithographie. In der Massenproduktion wird die einfachere Nahfeldbelichtung für die Herstellung von mikroelektromechanischen bzw. mikro-opto-elektromechanischen Systemen (MEMS bzw. MOEMS) und Flachbildschirmen an-gewendet. Die Nahfeldbelichtung wird auch an Universitäten und Forschungs-zentren häufig verwendet. In dieser Arbeit werden Methoden für die Simulation und Optimierung von Prozessen, die auf der Nahfeldbelichtung basieren, entwickelt und umgesetzt. Der gesamte lithographische Prozessfluss einschließlich Belichtung, Backen (post-exposure bake) und chemischer Entwicklung wird behandelt. Die Modelle berück-sichtigen eine breitbandige und partiell kohärente Belichtung und das Ausbleichen des Photolackes. Die Methoden sind sowohl für zwei- als auch für dreidimensionale Simulationen einsetzbar. Die Arbeit untersucht Techniken zur Verbesserung der Auflösung. Für die Simulation notwendige Lackparameter werden mit Hilfe von Kalibrierung ermittelt. Simulierte und experimentelle Lackprofile werden vergli-chen um die Gültigkeit der umgesetzten Modelle zu bestätigen. 134 pp. Englisch. Bookseller Inventory # 9783832297428

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