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Mikrostrukturierte Elektroden

Markus Svarc

ISBN 10: 3639252403 / ISBN 13: 9783639252408
Published by VDM Verlag Apr 2010, 2010
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Neuware - Die Verwendung von doppelseitig freitragenden mikrostrukturierten Elektroden in MEMS (Micro-Electro-Mechanical System) und Radiofrequenzfallen sind derzeit Gegenstand aktueller Entwicklungen. Dieses Buch stellt die chemischen und physikalischen Verfahren und einen schrittweisen Herstellungsprozess für die Erzeugung von mikrostrukturierten Elektroden vor. Um freitragende Metallelektroden zu erhalten wurde eine isotrope Tiefätzung eines Trägermaterials (in diesem Falle SiO2) durchgeführt, welche eine Unterätzung der Elektroden erzeugt. Zur Bearbeitung des Trägermaterials und der Metallisierung wurde auf Standardverfahren in der Prozesstechnik (Flusssäure für die isotrope Tiefenätzung, Argon-Plasma zum Sputtern der Metallisierung, Photolack zur Übertragung der Struktur der Belichtungsmaske) zurückgegriffen. Weiters wurde die Veränderung des Photolacks durch Argon-Beschuss und die Haltbarkeit der Metallisierung bei langen (24h-48h) Ätzzeiten in Flusssäure untersucht. Dieses Buch wendet sich an StudentInnen und ForscherInnen im Bereich mikromechanischer Systeme (MEMS) und VerfahrenstechnikerInnen. 96 pp. Deutsch. Bookseller Inventory # 9783639252408

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Bibliographic Details

Title: Mikrostrukturierte Elektroden

Publisher: VDM Verlag Apr 2010

Publication Date: 2010

Binding: Taschenbuch

Book Condition: Neu

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Synopsis:

Die Verwendung von doppelseitig freitragenden mikrostrukturierten Elektroden in MEMS (Micro-Electro-Mechanical System) und Radiofrequenzfallen sind derzeit Gegenstand aktueller Entwicklungen. Dieses Buch stellt die chemischen und physikalischen Verfahren und einen schrittweisen Herstellungsprozess für die Erzeugung von mikrostrukturierten Elektroden vor. Um freitragende Metallelektroden zu erhalten wurde eine isotrope Tiefätzung eines Trägermaterials (in diesem Falle SiO2) durchgeführt, welche eine Unterätzung der Elektroden erzeugt. Zur Bearbeitung des Trägermaterials und der Metallisierung wurde auf Standardverfahren in der Prozesstechnik (Flusssäure für die isotrope Tiefenätzung, Argon-Plasma zum Sputtern der Metallisierung, Photolack zur Übertragung der Struktur der Belichtungsmaske) zurückgegriffen. Weiters wurde die Veränderung des Photolacks durch Argon-Beschuss und die Haltbarkeit der Metallisierung bei langen (24h-48h) Ätzzeiten in Flusssäure untersucht. Dieses Buch wendet sich an StudentInnen und ForscherInnen im Bereich mikromechanischer Systeme (MEMS) und VerfahrenstechnikerInnen.

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